这次实现了光源波长的突破，从40nm到20nm都将是一马平川，再无困难点阻碍。
半导体行业依然会按照摩尔定律继续发展，一直到遇到新的瓶颈。”林本坚说得云淡风轻，心里却很得意。
他在现场看到了之前IBM的老熟人，也是他的对手，IBM光源团队的负责人鲍里斯·利普金。
之前在IBM的时候，他坚持深紫外光或者浸润法来突破193nm波长的限制，而鲍里斯坚持X光，林本坚后来被IBM“内部退休”和鲍里斯不无关系。
看到台下的敌人、朋友、对手、合作伙伴，大家虽然有着不同的立场，但是都在为半导体技术又一次进步而鼓掌而高兴，这技术进步是自己带来的，林本坚感到由衷的开心。
陈晓夏不太能体会林本坚的心情，他知道这很重要，不重要央妈也不会派一整个团队跑过来，他不知道具体有多重要，听完林本坚的回答后，陈晓夏有了更加直观的感受。
20年的难题被解决了，这确实是值得大书特书的事情，还是由我们华国的企业实现了这一突破。
“林博士，这次的技术突破你们是如何做到的？如何超越尼康、佳能以及荷兰的ASML这些公司？
他们在光刻机领域都有着比较悠久的历史，新芯是如何实现的赶超呢？”
林本坚说：“因为我们选择了正确的方向。
我们采取的是和其他公司都截然不同的方向。
在上世纪90年代末的时候，当时业内就提出了各种各样突破193nm波长的方案，其中包括157nmF2激光，电子束投射，离子投射、深紫外光和X光等等。
其中X光、电子束投射、离子投射都太遥远了，属于是有这个想法，理论来说可行，材料学的现状决定了不现实，这些只是前置研究。
最普遍的是157nm的F2激光，尼康、佳能、ASML都走的是这一技术路线。
但是这一技术路线同样有一些难点要克服，比如说157nm波长的光会被193nm波长光源光刻机的镜片吸收，他们要重新研制镜片，光刻胶也要重新研发，他们要克服的困难比我们更多。
我们采用的浸润法从方向上来说，可以是最简单的解决方案。我在和Newman讨论之后，确定了技术方向，然后朝着这一技术方向前进，没多久就实现了突破。”
林本坚很自豪，记者则敏锐捕捉到了新闻热点，和周新相关的都是新闻热点，陈晓夏连忙问：“林博士，您刚刚提到了Newman，是我所理解的周新吗？”
林本坚点头：“没错。”
陈晓夏继续问：“您的意思是周新博士在其中也起到了作用对吗？”
林本坚笑道：“他是老板，我们走的技术路线和其他公司都不一样，他得拍板干不
请收藏：https://m.57tyc.com
（温馨提示：请关闭畅读或阅读模式，否则内容无法正常显示）