展露出从未有过的认真。
这么说，这条技术路线赌赢了，手握大量技术专利，即便再通过瓦森纳协定卡脖子，一来可以出售专利给其他光刻机公司，然后继续在这一技术路线上继续研发，积累技术优势，构建自己的专利墙。
二来其他公司到时候做转向的时候，ASML、佳能、尼康处于同一起跑线，ASML不会那么快形成垄断，新芯光刻机能买到一些技术。
周新听完后想起原时空中林本坚在台积电工作的时候坚持要走浸没式光刻机路线，也没有听说当时林本坚经历过如此激烈的内心斗争啊。
周新再一思考，觉得是因为之前属于是帮台积电打工，自己无论干的怎么样拿的都差不多，自然会有学术上的坚持，赌性会更强，输了自己的损失有限。
现在新芯光刻机也有他的一份，技术路线一旦选错，失去的时间可再也回不来，损失是自己的。
周新在思考，林本坚见对方不说话，继续说：“其实我一直很犹豫，因为干式光刻机大家都在走这条路，业内的同行业公司他们都是研发干式光刻机。
没有谁考虑过湿法光刻机，一来是因为湿法光刻机是一个很冷门的技术路线，麻省理工学院林肯实验室的斯威特克斯和罗斯柴尔德两位研究员做过类似的研究，他们尝试过各种液体，都不太合适。”
周新打断道：“要用水，水的折射率是最合适的，只有水可以。”
林本坚鼓掌：“不愧是Newman，在一切事物上都是如此敏锐，没错我们也发现水才是最合适的。
因为水是半导体生产中要用到的大量液体，不存在接受度的问题。
而且我们在做预研究的时候测过水的折射率，1.46，这个折射率很合适，现在193纳米的波长通过水折射之后可以变成132纳米，直接跳过了157纳米，避开了这个困难，这真是上天的奇妙安排。”
为什么说157纳米是困难的，因为波长在193纳米的时候，光刻机镜头的孔径已经做到了0.93，这一技术的极限就是90纳米制程，要想更进一步，光源必须要更短的波长。
而业内找到的波长为157纳米的光，存在很多问题，穿透率低，只有很少可用的介质，比如说单结晶的二氟化钙，这种材料去做镜头的问题在于很难制造20-30公分大小的完美结晶。
还有像空气中的氧气会吸收157纳米的光，光经过的整个路径必须只有氮气，造成很多不便，会增加制造的成本，而且一旦出现意外漏出太多氮气会有致命危险。
157纳米的光存在非常多非常多要被克服的问题，林本坚则发现通过湿法可以不用换光源，作为基督徒的他愈发觉得这是上天的安排。
也正是因为他认为这是上天的
请收藏：https://m.57tyc.com
（温馨提示：请关闭畅读或阅读模式，否则内容无法正常显示）